正在阅读:三星半导体发力 10nm级制程工艺迎来更新三星半导体发力 10nm级制程工艺迎来更新

2016-04-22 10:53 出处:PConline原创 作者:刺客 责任编辑:fushaobin

  【PConline 资讯】据外媒Re/code消息,三星半导体高级主管Kelvin Low表示,将在今年晚些时候投产10nm级别制程工艺(有说法为改进的14nm工艺)。据悉,新制程工艺在性能表现上有10%的提升。除此之外,三星还计划优化14nm制程的成本,以吸引更多潜在用户。

14nm FinFET
14nm FinFET

  FinFET结构是半导体制程进一步下探的关键,Exynos 7420便是凭借先进工艺制程力压骁龙810。而Exynos 8890上14nm FinFET已经进化到第二代,综合表现与老司机台积电的16nm工艺旗鼓相当。目前三星半导体在芯片生产上除了自给自足外,还吸引了高通和苹果等主要客户,骁龙820便是由三星代工。

骁龙820
骁龙820

  此外台积电将在第三季度量产10nm工艺,并将在2017年上半年试产7nm工艺。这世界太疯狂了,移动SoC功耗和性能表现依然大有可为。

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